本文件规定了利用亚硫酸/二氧化硫蒸气测定金或钯镀层孔隙率的设备和方法，特别是用于测定电触头上的电镀层和包金层孔隙率的设备与方法。本文件不适用于孔隙率具体数值的符合性判定。
本文件不适用于通过孔隙的位置和腐蚀产物来预测镀层触点的电性能。
本文件适用于定量描述孔隙率小于100 /cm2的金或钯镀层。
本文件适用于定性描述与比较孔隙率大于或等于100 /cm2的金或钯镀层。